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型號:

鍍層厚度熒光檢測儀

描述:鍍層厚度熒光檢測儀,儀器采用能量色散X熒光FpThick軟件,*FP法和EC法等多種方法嵌入的人性化應用軟件,具有高靈敏度、測試時(shí)間短、一鍵智能化操作。譜圖區域采用動(dòng)態(tài)模式,測試時(shí)元素觀(guān)察更直觀(guān)。
軟件具有多種測試模式設置和無(wú)限數目模式自由添加,內置強度校正方法,可校正幾何狀態(tài)不同和結構密度不均勻的樣品造成的偏差。

  • 廠(chǎng)商性質(zhì)

    經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間

    2025-05-18
  • 訪(fǎng)問(wèn)量

    937
詳細介紹
品牌其他品牌價(jià)格區間面議
產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)應用領(lǐng)域醫療衛生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,包裝/造紙/印刷

鍍層厚度熒光檢測儀參數規格

 

1   分析元素范圍:S-U2   同時(shí)可分析多達5層以上鍍層3   分析厚度檢出限達0.005μm4   多次測量重復性可達0.01μm5   定位精度:0.1mm6   測量時(shí)間:30s-300s7   計數率:1300-8000cps8   Z軸升降范圍:0-140mm9   X/Y平臺可移動(dòng)行程:50mm(W)×50mm(D) 

鍍層厚度熒光檢測儀性能特點(diǎn)

 

1.滿(mǎn)足各種不同厚度樣品以及不規則表面樣品的測試需求2.φ0.1mm的小孔準直器可以滿(mǎn)足微小測試點(diǎn)的需求,可以對同一鍍件不同部位測試厚度3.高精度移動(dòng)平臺可定位測試點(diǎn),重復定位精度小于0.005mm4.采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測試高度5.定位激光確定定位光斑,確保測試點(diǎn)與光斑對齊6.鼠標可控制移動(dòng)平臺,鼠標點(diǎn)擊的位置就是被測點(diǎn)7.高分辨率探頭使分析結果更加精準8.良好的射線(xiàn)屏蔽作用9.測試口高度敏感性傳感器保護 

測試實(shí)例

 

鍍鎳器件是比較常見(jiàn)的電鍍器件,其鎳鍍層在保護銅基體免受氧化同時(shí)還能起到美觀(guān)的作用。這里以測試客戶(hù)的一件銅鍍鎳樣品為例說(shuō)明此款儀器的測試效果。
以下使用Thick800A儀器對銅鍍鎳樣品實(shí)際測試Ni層厚度,七次的結果其標準偏差和相對標準偏差。且可在樣品上進(jìn)行定位測試,其測試位置如圖。 結論

實(shí)驗表明,使用Thick800A 儀器對鍍件膜厚測試,結果準確度高,速度快(幾十秒),其測試效果*可以和顯微鏡測試法媲美。

 

鍍層厚度測試方法一般有以下幾種方法:1.光學(xué)顯微鏡法。適用標準為:GB/T6462-20052.X-ray法(X射線(xiàn)法)。適用標準為:GB/T16921-2005

3.庫侖法,此法一般為仲裁方法。適用標準為:GB/T4955-2005

儀器配置

                                            

1    硬件:主機壹臺,含下列主要部件: ①X光管                    ②半導體探測器③放大電路                  ④高精度樣品移動(dòng)平臺⑤高清晰攝像頭             ⑥高壓系統⑦上照、開(kāi)放式樣品腔        ⑧雙激光定位⑨玻璃屏蔽罩2   軟件:天瑞X射線(xiàn)rel="nofollow" 熒光光譜儀FpThick分析軟件V1.03   計算機、打印機各一臺計算機(品牌,P4,液晶顯示屏)、打印機(佳能,彩色噴墨打印機)4   資料:使用說(shuō)明書(shū)(包括軟件操作說(shuō)明書(shū)和硬件使用說(shuō)明書(shū))、出廠(chǎng)檢驗合格證明、裝箱單、保修單及其它應提供資料各一份。5   標準附件準直孔:0.1X1.0mm(已內置于儀器中)

 

測量標準

 

1.國標GB/T 16921-2005/ISO 3497:2000 金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測量X射線(xiàn)光譜方法2.美國標準A754/A754M-08Coating Weight(mass)of Metallic Coatings on steel by X-Ray Fluorescence

 

應用行業(yè)

 

1.電子半導體行業(yè)接插件和觸點(diǎn)的厚度測量2.印刷線(xiàn)路板行業(yè)功能鍍層厚度測量3.貴金屬首飾手表行業(yè)鍍層厚度測量

4.五金電鍍行業(yè)各種防腐性、裝飾性及功能鍍層厚度測量

 

分析原理

 

儀器采用XRF光譜分析技術(shù),X光管產(chǎn)生的X射線(xiàn)打到被測樣品時(shí)可以擊出原子的內層電子,出現殼層空穴,當外層電子從高軌道躍遷到低能軌道來(lái)填充軌道空穴時(shí),就會(huì )產(chǎn)生特征X射線(xiàn)。X射線(xiàn)探測器將樣品元素的X射線(xiàn)的特征譜線(xiàn)的光信號轉換成易于測量的電信號來(lái)得到待測元素的特征信息。


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